В РФ создана технология получения плазмы для ускорения разработки литографов
Группа исследователей создала высокотемпературную плотную квазистационарную плазму, которая излучает экстремальный ультрафиолет. Это открытие имеет большое значение для микроэлектроники, где фотолитография используется для создания мельчайших компонентов микрочипов. Для уменьшения размеров микросхем необходимы новые источники ультрафиолетового излучения, и плазма может стать основой для разработки новых литографических систем.
Плазма была создана с использованием уникальной установки, основанной на непрерывном терагерцовом лазерном пробое. Ее стабильность поддерживается за счет периодически повторяющихся импульсов излучения. В будущем ученые планируют увеличить мощность плазмы в 2-4 раза, усиливая интенсивность терагерцового излучения.
Для излучения предполагается использовать ксенон. Разрабатываемая технология будет адаптирована для компактных устройств, использующих СВЧ-генераторы, способных передавать энергию в виде сфокусированного пучка волн, с возможностью применения в космосе.
